热透新闻
中科院官宣国产光刻机取得突破ASML的担忧即将变为现实
发布日期:2021-07-18 21:57   来源:未知   阅读:

  近年来,我国科技取得了重大发展,涌现出很多优秀的科技企业,如华为在5G通信、操作系统等领域打破垄断,为我国的科技发展做出了卓越贡献。

  然而,我国科技的崛起,引起了一向自以为是的美国的不满,近两年来,不断以非常可笑的借口打压我国高新技术企业,尤其是其利用在半导体领域的技术优势,强行修改规则,切断华为的芯片来源,将华为逼入到了一个极其危险的境地。

  美国对华为等我国高新技术企业的打压,让我们意识到大力发展半导体产业链的重要性,但是,我们要想在短时间内将我国半导体产业链的整体水平提升一大截,亚视本港台手机直播,有很大的难度,究其原因就是光刻机被卡了脖子。

  为了解决卡脖子问题,2020年9月16日,中科院正式宣布,已成立光刻机科研小组,争取在短时间内解决卡脖子问题,为国内科技企业的发展保驾护航。

  中科院入局光刻机领域后,香港六合开奖结果记录,世界光刻机巨头ASML公司先后几次示好我国市场,明确表示将加速在我国市场的布局,加强与我国企业的合作,促进我国芯片制造水平的提升。

  除此之外,前不久,ASML公司总裁发出警告:如果不将光刻机卖给中国,三年之后,中国将会掌握这种技术,ASML公司或将因此退出光刻机市场!

  6月10日,中国科学院官网正式宣布,中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术,该技术具有较高的修正效率。

  众所周知,光刻机是制造芯片的关键设备,而光刻又是光刻机的核心关键技术之一,光刻分辨率直接决定了芯片的特征尺寸。

  随着芯片制程工艺技术的提升,芯片的图形特征尺寸不断减小,而光刻系统的衍射属性受限,直接导致明显的光学邻近效应,降低了光刻成像的质量。要想在光刻机软硬件不变的情况下,提高光刻分辨率,提升光刻成像的质量,就需要利用学模型和软件算法对照明模式、掩模图形与工艺参数等进行优化,这项技术被称为计算光刻技术。

  不少业内人士表示,计算光刻技术是推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力!

  上海光学精密机械研究所通过模型的OPC技术,掌握了90nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术,为我国光刻机的研制做出了巨大的贡献。

  上海光学所取得的重大光刻技术突破,引起了美科技界的很大震动,纷纷表示:美国自己把事情搞大了,中国一旦研制出高端光刻机,不但ASML公司有可能会退出光刻机市场,美芯也将受到很大的打击!

  不少主流媒体认为,随着中国光刻机技术的不断突破,美国或将降低对中国企业的打压力度,高通拿到供货华为的许可就是最好的证明。

  笔者认为,即便是美国现在放弃了对我国企业的制裁,任由两国的企业自由合作,我们也绝不能放弃核心技术的自研,因为核心技术是买不来、讨不来、求不来的,我们只有通过加大研发力度,掌握关键核心技术,国内企业或将不再会被卡脖子。